化學氣相沉積的特點：

1)在中溫或高溫下，通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。

2)可以在常壓或者真空條件下(負壓"進行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好)。

3)采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進化學反應，使沉積可在較低的溫度下進行。

4)涂層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。

5)可以控制涂層的密度和涂層純度。

6)繞鍍件好。可在復雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復雜形狀的工件。由于它的繞鍍性能好，所以可涂覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件。

7)沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu)，不耐彎曲，但可通過各種技術(shù)對化學反應進**相擾動，以改善其結(jié)構(gòu)。

8)可以通過各種反應形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。