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低損傷去膠系統 新式去膠系統的成本已攀升到不合理水平。但Trion已通過兩套價格低廉、緊湊的多功能系統使這一關鍵問題得到解決：Gemini和Apollo。
利用ICP（電感耦合等離子）、微波和射頻偏置功率， 可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據應用要求， 每套系統可以結合SST-Lightning微波源 （既可靠又沒有任何常見的微波調諧問題）或ICP技術。
—刻蝕速率高達6微米/分 —吞吐量高 —等離子損傷低 —自動匹配網絡 —適用于100mm到300mm基片 —設備占地面積小 —價格具競爭性
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