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產品資料
全自動化等離子系統
簡介：

Trion創建于1989年,是一家反應離子刻蝕與沉積系統制造商 Trion為化合物半導體、MEMS（微機電系統）、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。 產品占地面積小、成本低，可靠穩定，應用于化學氣相沉積PECVD工藝。
產品詳情

Titan是一套用于半導體生產的十分緊湊、全自動化、帶預真空室的等離子系統。

Titan具有反應離子刻蝕(RIE)配置、高密度電感耦合等離子沉積(HDICP)或等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)配置。可對單個基片或帶承片盤的基片(3”-300mm尺寸)進行處理。它還具有多尺寸批處理功能。價格適宜且占地面積小。


刻蝕應用：
砷化鎵、砷化鋁鎵、氮化鎵、磷化銦、鋁、硅化物、鉻以及其他要求腐蝕性和非腐蝕性化學刻蝕的材料。


沉積應用：
二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各種材料。

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